193nm相关论文
在193 nm光刻中,已证明水是一种适于浸液式光刻的液体.浸液式光刻提出了一种可将传统的光学光刻拓展到45 nm节点,甚至到32 nm节点......
193nm的ArF准分子激光光刻可将特征线宽推进到0．10μm。重点介绍了193nm薄膜的研究进展及影响薄膜性能的主要因素，并对具体的研究方......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
193nmArF激基体激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点.本文介绍了近年来......
介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂--硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光......
探究LA-ICP-MS分析中不同基体的剥蚀行为和剥蚀速率,可为激光参数设定、基体匹配选择、数据质量保证等方面提供重要参考。本文研究......
概述了193nm薄膜激光诱导损伤的研究进展。通过对紫外到深紫外波段几种典型薄膜损伤形貌的介绍，对比分析了193nm薄膜激光诱导损伤的......
计算了适用于193nm增透膜设计与制备的基底与薄膜材料的光学常数,并在此基础上对193nm增透膜进行了设计、制备与性能分析.发现基底......
分析了膜厚控制误差对反射膜设计曲线的影响,发现高低折射率材料厚度反方向变化时(高折射率膜层厚度增加,低折射率膜层厚度减小),......
对应用于193nm反射膜的基底材料、薄膜材料、沉积技术与主要沉积工艺参数进行了分析与优化选择,在此基础上进行了193nm反射膜的设......
为了研制低损耗、高性能的193 nm氟化物高反膜,对193 nm氟化物高反膜的设计、制备与性能分析进行了深入探讨。用挡板法和预镀层技......
<正>马来酸酐与降冰片烯共聚物是下一代微电子193nm 光刻技术应用的光刻胶。可以一般通过自由基共聚反应制备,一般说来,氧是自由基......
集成电路制造业是我国给予高度关注的战略产业之一。随着光刻技术的不断发展，集成电路的集成度越来越高，集成电路的尺寸越来越小，自20......
